北京中天恒遠的小編龍二給您詳細的介紹——集成電路EDI超純水設(shè)備清洗方法，幫助廣大用戶朋友更好的了解。

　　集成電路EDI超純水設(shè)備主要用在電子制造業(yè)中的集成電路芯片生產(chǎn)領(lǐng)域上面，隨著科技的發(fā)展，集成電路芯片成為電子產(chǎn)品中不能缺少的配件，在這種電子配件生產(chǎn)的過程中，必須使用超純水作為流程中。

　　電子制造業(yè)對超純水的使用量以及對用水質(zhì)量的要求不低于醫(yī)療制藥行業(yè)，因為電子產(chǎn)品生產(chǎn)的時候會用到超純水，其用水質(zhì)量的好壞直接關(guān)系著比較終產(chǎn)品質(zhì)量的好壞，因此電子制造企業(yè)絕大多數(shù)都會使用電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)對原水進行處理，進而使得原水符合企業(yè)用水標準。

　　集成電路EDI超純水設(shè)備清洗污垢方法

　　1、倒換電極�？梢杂行У販p輕膜及陰極上的水垢，一般水垢沉積在濃水室陰極表面上，倒換電極后，濃水室、淡水室相應(yīng)倒換造成水垢的不穩(wěn)定狀態(tài)，因而可以減輕結(jié)垢。

　　2、酸洗。是消除沉淀的有效方法，水垢積到一定程度，就需要進行酸洗，酸洗一般采用循環(huán)酸洗，濃水，淡水和極水室一次酸洗的方法。

　　3、堿洗。酸洗不能取出有機沉淀物，對于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗，使有機物消除，堿洗可以利用酸洗系統(tǒng)進行，一般不另設(shè)裝置。

　　4、定期拆洗。采用上述方法不能回復(fù)除鹽率時，應(yīng)把EDI膜堆拆開清洗，重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。

　　集成電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)采用的是比較流行的EDI膜塊制水工藝，比較終出水電阻率能夠達到18兆歐以上，與此同時，集成電路EDI電除鹽系統(tǒng)的出水中還不會含有任何的細菌以及微生物，所以使用該種電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)作為供水系統(tǒng)的企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量一定是符合標準的。

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